瓦尔麦特公司保留测量

Valmet保留测量(VALMET RM3) - 总和真正的灰分一致性测量,适用于潮湿的监控和控制。

保留测量Valmet一直是纸机湿端测量和控制的创新者和先驱。Valmet Retention Measurement (Valmet RM3)和Valmet Wet End Analyzer (Valmet WEM)延续了上世纪80年代末选择的产品开发路线,为纸机湿端工艺提供全新的测量方案。

高生产率的关键

特征

Valmet RM3湿式终端传感器适用于总,单线测量的总和真正的灰分效应,适用于建立过程监控和控制的解决方案。它基于超过30年的光学一致性测量经验,代表了第三代行业标准技术。Valmet RM3是市场上唯一的测量,能够从过程样本中测量总和真正的灰分一致性。

Valmet RM3 - 单线保留测量的选择

  • 总和真灰稠度测量
  • 光学测量原理
  • 一个样品线的连续测量
  • 湿端一致性和保留的实时监测
  • 适用于自动控制应用

应用程序

  • 自动湿端控制解决方案
  • 持续监测湿端一致性和保留
  • 升级路径为kajaani rm-200和单行kajaanirmi。
  • 所有纸张和纸板机
  • 所有类型和尺寸
  • RCF和DIP应用程序
  • 组织机器

好处

  • 在线回复流程更改
  • 对过程变化的快速识别使快速决策成为可能
  • 过程中问题的识别与本地化
  • 更快的测试运行
  • 更快的流程优化
  • 更多的过程信息,更少的实验室工作
  • 基于工艺反应的精确化学剂量
  • 启用自动控制

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